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该技术克服了溅射关功能的问题，但需要或者多个离子源或样本轮换，以提供统一的侵蚀。
这项技术克服了溅射关闭功能的问题，但需要多个离子源或样本轮换提供统一的侵蚀。
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这项技术克服了溅射关闭功能的问题，但需要多个离子源或样本轮换提供统一的侵蚀。
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