Next, features are lithographically patterned into the dielectric by means of photoresist deposition, exposure and processing and then reactive ion etching (RIE) through the re?sist mask的翻译：下一步，特点是 lithographically 仿效入介质的光致抗蚀剂沉积、曝光和处理和通过 resist 掩码的然后活性离子蚀刻（反应离子刻蚀）什么意思？中文翻译英文，英文翻译中文，怎么说？

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下，功能光刻图案沉积光阻，曝光和处理，然后反应离子刻蚀（RIE）的方式，通过抵制面具到介质

下一步，特点是 lithographically 仿效入介质的光致抗蚀剂沉积、曝光和处理和通过 resist 掩码的然后活性离子蚀刻（反应离子刻蚀）

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下一步，特点是 lithographically 仿效入介质的光致抗蚀剂沉积、曝光和处理和通过 resist 掩码的然后活性离子蚀刻（反应离子刻蚀）

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