青云翻译

溅射发射过程中被溅射原子角的余弦状分布在第2章介绍。虽然这种分布的变化，定期观察，总的趋势是，溅射原子从靶面广泛的角度喷出。实际溅射沉积工具，在第5章介绍，通常特点是短期的目标样本（掷）的距离比较大的目标直径几厘米或横向尺寸，往往50％以上（晶圆）样品存放上。

溅射排放工艺是进行第 2 章中描述的磁控溅射原子的余弦样角分布。虽然这种分布的变化经常观察到，但总的趋势是，溅射的原子弹出从目标表面在范围广泛的角度。第 5 章中描述的实际溅射沉积工具通常的特点是短期的目标样本 (扔) 距离的几厘米，直径较大的目标或横向尺寸，往往比 (晶片) 样品上沉积大 50%。

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溅射排放工艺是进行第 2 章中描述的磁控溅射原子的余弦样角分布。虽然这种分布的变化经常观察到，但总的趋势是，溅射的原子弹出从目标表面在范围广泛的角度。第 5 章中描述的实际溅射沉积工具通常的特点是短期的目标样本 (扔) 距离的几厘米，直径较大的目标或横向尺寸，往往比 (晶片) 样品上沉积大 50%。