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有机沉积开始前,为其他应用程序开发的设备可能是适合的涂层或处理的基板检查。颗粒或划痕的光学检测是相对简单的尺寸在1微米以上的缺陷。然而,由于小颗粒进行10纳米可能导致短裤,特殊的技术来检测,防止或改善,可能需要局部短路。
有机沉积开始之前,可能适合的镀膜或经处理的衬底材料检验设备为其他应用程序开发。光学检测粒子或划痕是相对简单的大小 1 μ m 以上的缺陷。然而,自从导电颗粒小 10 nm 可能会导致短裤,可能需要特殊的技术检测、 阻止或改善本地做空。
在有机证言开始之前,为其他应用开发的设备也许是适当的为上漆或被对待的基体的检查。 微粒物质或抓痕的光学侦查为瑕疵是相对地直接的在1 μm之上在大小。 然而,从举办的微粒一样小,象10毫微米也许导致短裤,查出,防止或者改良本机短缺的特别技术也许是需要的。
设备开发的应用程序可能会适合检查涂层或处理前承印物有机沉积就会开始。 光盘检测的粒子或划痕是相对简单的缺陷超过1μm的大小。 但是,由于进行颗粒尽可能小,这可能会导致短路10纳米制程,特殊的技术来检测,防止或减轻可能需要本地短路。
有机沉积开始之前,可能适合的镀膜或经处理的衬底材料检验设备为其他应用程序开发。光学检测粒子或划痕是相对简单的大小 1 μ m 以上的缺陷。然而,自从导电颗粒小 10 nm 可能会导致短裤,可能需要特殊的技术检测、 阻止或改善本地做空。
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