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阴极沉积是一个最困难的步骤，批次和网络处理，由于底层有机层的脆弱性。蒸发是在研究环境中的首选技术，但可能不够快处理时间，以满足能源部的积极目标。其他如磁控溅射离子束辅助沉积技术都还可以，但需要加倍小心，以避免损坏。可以修改电子注入层，在发光层，以保护更多敏感材料。

阴极沉积是最困难的步骤，对于批处理和 web 处理，由于底层的有机层的脆弱性之一。蒸发的首选的技术在研究环境中，但可能不是不够快，无法满足大胆的 DOE 目标处理时间为。磁控溅射和离子束辅助沉积等其他技术也可用，但为避免损坏需要加倍小心。可以修改电子注入层来保护发射率的图层中的更为敏感材料。

负极证言是其中一最困难的步，为批和网处理，由于部下的有机层数的脆弱。 蒸发是首选的技术在研究环境里，但可能不是足够快速地实现进取的母鹿目标为处理时间。 其他技术象磁控管飞溅和离子束协助的证言也是可利用的，但十分注意是需要的避免损伤。 在放射性的层数可以修改电子射入层数保护更加敏感的材料。

阴极沉积,其中一个最困难的步骤,这两个批处理和web的处理,由于是脆弱的基本有机层。 蒸发是在研究环境中的首选技术,但不可能达到理想的速度,以满足侵略doe目标的处理时间。 其它技术,如磁控离子溅射和离子束辅助沉积法也可以,但更需要谨慎从事,避免损坏。

阴极沉积是最困难的步骤，对于批处理和 web 处理，由于底层的有机层的脆弱性之一。蒸发的首选的技术在研究环境中，但可能不是不够快，无法满足大胆的 DOE 目标处理时间为。磁控溅射和离子束辅助沉积等其他技术也可用，但为避免损坏需要加倍小心。可以修改电子注入层来保护发射率的图层中的更为敏感材料。